方法是选取严重上牙弓前突成年患者8例，其中男性3例，女性5例，年龄18～31岁。在上颌第二前磨牙与第一磨牙间植入种植体，以两步法内收上前牙，通过X线头影测量方法观察种植体、磨牙、尖牙及切牙在矢状和垂直方向上的位置变化；配对t检验比较治疗前后的差异。结果治疗后种植体头部、体部及尾部的矢状向位移分别为（0.42±0.50）mm、（0.18±0.35）mm、（-0.15±0.47）mm，垂直向位移分别（0.12±0.21）mm、（0.24±0.36）mm、（0.26±0.48）mm；上颌第一磨牙矢状向位移为（0.70±2.45）mm，轴倾度增大（2.06±1.70）。治疗前后比较，差异均无统计学意义（P〉0.05）。治疗后上颌切牙切端平均水平内收6.86mm，切牙牙轴平均减少18.03°，切牙阻抗中心平均压入3.28mm，尖牙平均远移6.83mm，差异均有统计学意义（P〈0.01）。

　　由此得出结论种植体支抗可实现理想的支抗控制效果。